半導體用水主要是介于導體和絕緣體之間的水處理材料，在半導體價格的進程中需要對用水進行處理，該水質的要求較高，不能在含有各種離子雜質的水進行使用。半導體工業純水設備采用先進的制水技術，能夠有效去除水中的大量雜質，保證設備的出水水質。

半導體行業用水的主要要求用于高級的技術工業生產過程，尤其作為半導體這些方面要求較高的技術行業，對于水質的需求也是非常嚴格的。半導體水質金屬離子包含K+、Na+、Mn2+等等金屬離子含量都在大幅度降低PPB級別之下，電阻率需要在18.2以上，水質的雜質原子都需要對產品造成極大的影響。

半導體用水的制備預處理系統：一般情況下源水都采用難以滿足超純水的要求，超純水以及制備過程中，進行水處理設備預處理工藝流程，能夠大幅度降低水質，能夠去除水中的懸浮物以及各類雜質有機物。氧化主要是根據去除生物講解以及有機物和氨氮物。能夠吸附同樣能夠去除水中大量雜質。

　　半導體用水工藝：

　　1、預處理-反滲透-水箱-陽床-陰床-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過濾器-用水對象

　　2、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水對象

　　3、 預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水對象