在痕量分析檢測的過程中，超純水系統會在分析結果中產生非常巨大的影響。

在很早之前，電子半導體材料就已經開始崛起并應用于多個領域，在觀察半導體的導電性以及雜質的時候，需要具備電活性，嚴重的降低了單晶硅片中載有的流子壽命，所以他其中所含的量需在1毫克以下，其測量的雜質含量也更低，半導體行業中我們才認識到痕量元素在高純度的材料中有著非常重要的問題，從而開辟出了痕量分析的時代。

在痕量分析的過程中，為了能夠達到最大的量化指標，有幾個參數都是較為重要的，實驗室中的稀釋溶液以及洗滌玻璃器皿等設備的超純水。最重要的是使用超純水設備產水的過程中，電阻率會測試出可溶性硅等樹脂的效益才是最重要的。

在痕量分析中的超純水設備包括一系列純化設備，最主要的是預處理濾芯，RO反滲透模塊以及后處理的純化元件以及滅菌消解單元構成。艾柯超純水設備電導率能夠達到18.2MΩ，熱源低于0.001EU，其產生的超純水完全能夠滿足痕量分析儀使用流程中的用水需求。

超純水設備在能夠有效使用并去除硅離子的時候所有的粒子都會顯示出較高的截留率。所有在最后的水處理單元中，超純水通常將使用過特殊設備的棚元素和去除的純化柱，再將其降低早期的棚穿透。這種技術在結合過程中需要保證其PPT級別或是達到次PPT級別對超純水設備制取出的超純水的要求。